초음파세정과 주파수

초음파세정과 주파수

초음파세정은 68KHz대 이하의 KHz와 100KHz~500KHz대의 고주파대 및 1MHz 이상의 메가대로 크게 나누어 진다.
KHz대는 통상 28KHz와 40KHz를 사용하고 있으며 이는 강력한 Cavitation작용에 의해 세척이 이루어지고 있어 정밀하고 약한 부품의 세정에는 68KHz를 사용하고 있으며 반도체, 액정, 초정밀 부품등의 세정에는 100KHz~500KHz대의 고주파대를 이용하고 있으며 TFT, LCD등의 초정밀 세정에는 메가(MHz)대로 세정을 행하고 있으며 100KHz이상의 주파수는 Cavitation작용이 아닌 강력한 분자이동에 의해 세정이 이루어 지고 있다.
MHz세정기는 10여년전에 미국에서 웨이퍼 세정기용으로 개발되었으나 초기에는 많은 문제점이 있어 그간 보완되어 오늘에 이르러서나 그간 부품산업의 발전과 더불어 MHz세정기로서는 세정이 어렵고 40KHz대로서는 부품의 손상내지 파손을 가져오게 되어 그 중간 주파수대의 필요성에 따라 개발된 것이 100KHz, 170Khz이며 2년전부터는 400KHz대로 출시되어 있다.
현재 일본에서는 100KHz, 170KHz의 시장이 증가하고 있으며 400KHz대의 시장도 작년부터 증가하고 있는 추세에 있읍니다.

항 목	28KHz	40KHz	고주파	메가
세정원리	Cavitation	Cavitation	분자의가속도	분자의가속도
입자 가속도	1500G	2500G	10000G이상	100000G이상
충 격 파	수백기압	수십기압	없음	없음
정 재 파	매우강력	강력	없음	없음
파동의 특징	회절이 강함	회절이 강함	직진성이 높음	직진성이 높음
제거가능입자	3㎛이상	2㎛이상	1㎛이상	0.1㎛이상
용 도	일반세정용	일반세정용	정밀세정용	초정밀세정용